正像正置LW200Z-4LJT金相显微镜在观察时成像为正像，大于3 微米小于20微米观察目标，比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹，都能有很好的成像效果。

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研究用系统金相显微镜，涵盖明场、暗场、偏光、微分干涉等观察方式。反射、透反射两种照明系统可选，配有大功率透反射式双光路柯勒照明系统。适用于工矿企业、高等院校及科研等机构作材料内部组织结构分析。

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P-2、P-2A、PG-2 试样抛光机、双盘抛光机、金相抛光机P-2抛光机是采集多方面使用人员的意见和要求设计而成的，它具有结构合理、传动平稳、噪音小、操作维修方便等优点。该机可供双人同时操作，能适合更多种材料的抛光要求，是试样抛光的理想设备。电动机功率：180w● 抛

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安装了LV-UEPI通用落射照明器后可进行透射、落射偏光、落射荧光观察。 复眼照明电路提供比传统12V100W系统更完善的照明条件。

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